電子束蒸發（electron
電子束蒸發（electron-beamevaporation）
電子束蒸發是一種清潔的金屬薄膜淀積工藝。由熱絲發射的電子經過聚焦、偏轉和加速以后形成能量約為10keV的電子束，然后轟擊放在有冷卻水套的容器中的金屬并使之蒸發。蒸發的金屬在置于附近的襯底（如硅片）上淀積，從而獲得有一定厚度的金屬鍍層。電子束蒸發具有沾污輕和適用范圍廣的優點，但不適用于多元合金及易被電子束分解的化合物。鋁受電子束轟擊激發出的特征X射線會對器件造成損傷。電子束還可能使真空室內殘余氣體和一部分蒸發的金屬原子電離。電子束蒸發在半導體集成電路中的主要應用是引線金屬化層的淀積。
